Maqsadli materialning katta maydon qoplamasini ishlab chiqarish sifatiga ta'siri qanday

　　Zamonaviy binolar shisha yoritishning katta maydonlaridan foydalana boshladi.Bu jihat bizga yorqinroq xonalarni va kengroq ufqlarni beradi.Boshqa tomondan, shisha orqali o'tadigan issiqlik atrofdagi devorlarga qaraganda ancha yuqori va butun binoning energiya iste'moli sezilarli darajada oshadi..

　　Rivojlangan mamlakatlarda past nurlanishli oynaning 90% dan ko'prog'ini ishlatish darajasi bilan solishtirganda, Xitoyda past-E oynasining penetratsiya darajasi atigi 12% ni tashkil qiladi va Xitoyda hali ham rivojlanish uchun juda ko'p joy mavjud. oddiy shisha va onlayn past-E shisha, oflayn LowE shisha ishlab chiqarish qiymati yuqori bo'lib, bu ma'lum darajada qo'llanilishini cheklaydi.Mahalliy oynani qayta ishlash korxonalari qoplama mahsulotlarini ishlab chiqarish xarajatlarini doimiy ravishda kamaytirish, amalga oshirishni tezlashtirish majburiyatiga ega. energiyani tejash, atrof-muhitni yaxshilash va ijtimoiy barqaror rivojlanishga erishish.

　　1、Maqsad shaklining ta'siri

　　Qoplamaning katta joylari ko'pincha maqsadli materialni shaklga ko'ra ishlatadi, shu jumladan planar orientatsiya va aylanish yo'nalishi.Umumiy planar maqsadlarga mis nishon, kumush nishon,Ni-Cr maqsadi va grafit nishoni.Umumiy aylanadigan maqsad sink alyuminiy nishoni, sink qalay nishoni, kremniy alyuminiy nishoni, qalay nishoni, titanium oksidi nishoni, sink oksidi alyuminiy nishoni va boshqalarga ega. Maqsad shakli magnetron püskürtme qoplamasining barqarorligi va kino xususiyatlariga ta'sir qiladi, va undan foydalanish. maqsad darajasi juda yuqori.Maqsadning shaklini rejalashtirishni o'zgartirgandan so'ng, qoplamaning sifati va ishlab chiqarish quvvati yaxshilanishi va xarajatlarni tejash mumkin..

　　2、Nisbiy zichlikning ta'siri va maqsadni tozalash

Nishondagi nisbiy zichlik amaliy zichlikning maqsadning nazariy zichligiga nisbati, yagona komponentli maqsadning nazariy zichligi kristall zichligi va qotishma yoki aralashmaning nazariy zichligi nazariyaga muvofiq hisoblanadi. har bir elementning zichligi va qotishma yoki aralashmadagi nisbati..Termal purkagichning maqsadli joylashuvi gözenekli, yuqori kislorodli (vakuumli püskürtme bilan ham, qotishma nishonida oksidlar va azotli birikmalarning ishlab chiqarilishi muqarrar) va tashqi ko'rinishi kulrang va metall yorqinligi yo'q.Adsorbsiyalangan aralashmalar va namlik ifloslanishning asosiy manbalari hisoblanadi.

3、Maqsadli zarracha kattaligi va kristall yo'nalishining ta'siri

Maqsadning bir xil og'irligida kichik zarracha o'lchamiga ega bo'lgan nishon katta zarracha o'lchamiga qaraganda tezroq bo'ladi.Buning sababi, birinchi navbatda, chayqalish jarayonida zarracha chegarasini bosib olish oson, zarracha chegarasi qanchalik ko'p bo'lsa, plyonka tezroq paydo bo'ladi.Zarrachalar hajmi nafaqat püskürtme tezligiga ta'sir qiladi, balki plyonka hosil bo'lish sifatiga ham ta'sir qiladi.Masalan, EowE mahsulotlarini ishlab chiqarish jarayonida NCr infraqizil aks ettiruvchi qatlam Ag parvarishlash qatlami sifatida ishlaydi va uning sifati katta ta'sir ko'rsatadi. qoplama mahsulotlari.NiCr plyonka qatlamining katta so'nish koeffitsienti tufayli u odatda nozik (taxminan 3 nm) .Agar zarracha hajmi juda katta bo'lsa, püskürtme vaqti qisqaradi, kino qatlamining zichligi yomonlashadi, Ag qatlamining parvarishlash ta'siri. pasayadi va qoplama mahsulotlarining oksidlanishiga olib keladi.

　　xulosa

　　Maqsadli materialning shaklini rejalashtirish asosan maqsadli materialdan foydalanish tezligiga ta'sir qiladi.O'rtacha o'lchamlarni rejalashtirish maqsadli materialdan foydalanish tezligini yaxshilash va xarajatlarni tejash imkonini beradi. Zarrachalar hajmi qanchalik kichik bo'lsa, qoplama tezligi qanchalik tez bo'lsa, bir xillik shunchalik yaxshi bo'ladi.Tozalik va zichlik qanchalik yuqori bo'lsa, g'ovaklik qanchalik past bo'lsa, plyonka sifati shunchalik yaxshi bo'ladi va tushirish shlaklarini kamaytirish ehtimoli shunchalik past bo'ladi.