Yupqa plyonkali tranzistorli suyuq kristalli displey panellari hozirgi vaqtda tekis panelli displeyning asosiy texnologiyasidir va metall purkash maqsadlari ishlab chiqarish jarayonida eng muhim materiallardan biridir.Hozirgi vaqtda Xitoyda asosiy LCD panel ishlab chiqarish liniyalarida qo'llaniladigan metall püskürtme maqsadlariga talab to'rt turdagi maqsadlar uchun eng yuqori: alyuminiy, mis, molibden va molibden niobiy qotishmasi.Yassi displey sanoatida metall purkash maqsadlariga bozor talabini tanishtirishga ijozat bering.
1, alyuminiy nishoni
Hozirgi vaqtda mahalliy suyuq kristall displey sanoatida ishlatiladigan alyuminiy maqsadlari asosan Yaponiya korxonalari tomonidan ustunlik qiladi.
2, Mis nishoni
Sputtering texnologiyasining rivojlanish tendentsiyasi nuqtai nazaridan, mis maqsadlariga bo'lgan talabning ulushi asta-sekin o'sib bormoqda.Bundan tashqari, so'nggi yillarda mahalliy suyuq kristalli displey sanoatining bozor hajmi doimiy ravishda kengayib bormoqda.Shu sababli, tekis panelli displey sanoatida mis maqsadlariga bo'lgan talab o'sish tendentsiyasini ko'rsatishda davom etadi.
3, Keng diapazonli molibden maqsadi
Chet el korxonalari nuqtai nazaridan: Panshi va Shitaike kabi xorijiy korxonalar asosan mahalliy keng molibden maqsadli bozorini monopollashtiradi.Mahalliy ishlab chiqarilgan: 2018 yil oxiridan boshlab suyuq kristalli displey panellarini ishlab chiqarishda mahalliy ishlab chiqarilgan keng assortimentdagi molibden maqsadlari qo'llanildi.
4, Molibden niobiy 10 qotishma nishoni
Molibden niobiy 10 qotishmasi, yupqa plyonkali tranzistorlarning diffuziya to'siqni qatlamida molibden alyuminiy molibden uchun muhim o'rinbosar material sifatida, istiqbolli bozor talabi istiqboliga ega.Biroq, molibden va niobiy atomlari o'rtasidagi o'zaro diffuziya koeffitsientidagi sezilarli farq tufayli, yuqori haroratli sinterlashdan so'ng niobiy zarralari holatida katta teshiklar hosil bo'ladi, bu esa sinterlash zichligini yaxshilashni qiyinlashtiradi.Bundan tashqari, kuchli qattiq eritmaning mustahkamlanishi molibden va niobiy atomlarining to'liq tarqalishidan keyin hosil bo'ladi, bu ularning aylanish ko'rsatkichlarining yomonlashishiga olib keladi.Biroq, ko'plab tajribalar va yutuqlardan so'ng, u 2017 yilda 1000 × A Mo Nb dan kam bo'lgan kislorod miqdori 99,3% zichlikdagi qotishma maqsadli igna bilan muvaffaqiyatli ishlab chiqarildi.
Xabar berish vaqti: 2023 yil 18-may