CrSi qotishma purkash maqsadi yuqori tozalikdagi yupqa plyonka Pvd qoplamasi maxsus tayyorlangan

Chronium Silicon Puttering maqsadlarini ishlab chiqarish quyidagi bosqichlarni o'z ichiga oladi:
1.Silikon va xronni vakuumda eritib, bosqichli qotishmalarni olish.
2.Kuchni maydalash, qadoqlash va evakuatsiya qilish.
3.Yarim tayyor mahsulotlarni olish uchun issiq izostatik presslash bilan ishlov berish.
4.Xrom-kremniyli qotishma purkagichli maqsadli materialni olish uchun qo'pol xrom-kremniy qotishma purkash maqsadli materialiga ishlov berish.

CrSi ko'pincha yuqori qarshilik plyonkali material sifatida ishlatiladi, u yuqori qarshilik, barqarorlik va qarshilikning past harorat koeffitsientiga ega.Xroniy va kremniy Cr3Si, Cr5Si3,, CrSi, CrSi2 kabi ko'plab silitsid fazalarini ishlab chiqarishi mumkin.CrSi filmining ishlab chiqarish jarayoni, tarkibi va issiqlik bilan ishlov berish jarayoni uning ishlashiga katta ta'sir qiladi.

Rich Special Materials Sputtering Target ishlab chiqarishga ixtisoslashgan va mijozlarning spetsifikatsiyalariga muvofiq Chronium Silicon Sputtering Materials ishlab chiqarishi mumkin.Qo'shimcha ma'lumot olish uchun biz bilan bog'laning.