Veb-saytlarimizga xush kelibsiz!

NiTa Sputtering maqsadi Yuqori tozalikdagi yupqa plyonka Pvd qoplamasi buyurtma asosida tayyorlangan

Nikel tantal

Qisqa Tasvir:

Turkum

Qotishma purkash maqsadi

Kimyoviy formula

NiTa

Tarkibi

Nikel tantal

Tozalik

99,9%,99,95%,99,99%

Shakl

Plitalar, ustunli nishonlar, yoy katodlari, buyurtma asosida

Ishlab chiqarish jarayoni

Vakuumli eritish, PM

Mavjud o'lcham

L≤200mm, W≤200mm


Mahsulot detali

Mahsulot teglari

Nikel tantalini sepish maqsadlari vakuumli eritish yoki chang metallurgiya jarayoni orqali ishlab chiqariladi.U yuqori soflik va bir hil mikro tuzilishga ega.

Nikel tantalini purkash maqsadlari aerokosmik, samolyotlar, navigatsiya sanoatida keng qo'llaniladi.Uning yuqori haroratli sirt reaktivligiga yaxshi qarshilik qotishmada mavjud bo'lgan tantalning katta miqdoridan kelib chiqadi, bu yuqori erish harorati 3000 ° C.Xususiyatlarini yaxshilash uchun odatda alyuminiy, itriy va xroniy qo'shiladi.

Rich Special Materials Sputtering Target ishlab chiqarishga ixtisoslashgan va mijozlarning spetsifikatsiyalariga muvofiq nikel tantalli purkash materiallarini ishlab chiqarishi mumkin.Qo'shimcha ma'lumot olish uchun biz bilan bog'laning.


  • Oldingi:
  • Keyingisi: